一般液氩汽化后没有经过提纯，氧含量一般为2ppm~5ppm。有时气体供应商供应的氩气超过了这个范围，使用氩气的客户并不知道它的质量，所以往往会影响产品的质量。有了成都氩气纯化装置，无论氩气原料气的质量如何，只要经过纯化装置处理，进入拉晶炉的氩气纯度总是恒定的。

清洁表面。 在清洗晶圆、玻璃等产品表面颗粒的过程中，通常采用等离子体轰击材料表面的颗粒，使颗粒分散疏松，然后进行离心清洗等处理过程，会产生显著的效果。这在半导体封装应用中尤为突出。为了防止引线键合过程后引线的氧化，应使用氩等离子体或氩氢等离子体清洗产品表面，以达到更好的产品处理效果。

氩气泄漏的处理措施。 迅速将泄漏污染区的人员撤离至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急响应人员穿戴自给式正压呼吸器和普通工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。泄漏的容器应在使用前进行适当的处理、修理和检查。